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等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)系統(tǒng)

簡要描述:Vision 310等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)系統(tǒng)--PTI 790+ 系列的延續(xù),延續(xù)了服務于多樣化市場的成功經(jīng)驗

  • 產(chǎn)品型號:Vision 310
  • 廠商性質(zhì):代理商
  • 產(chǎn)品資料:
  • 更新時間:2025-07-31
  • 訪  問  量: 211

詳細介紹

1.靈活的沉積能力

·等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)系統(tǒng)基于硅的沉積工藝-氧化物、氮化物、氧氮化物、非晶硅(a-Si)、碳化硅(SiC

·等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)系統(tǒng)研究與開發(fā)

·等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)系統(tǒng)原型制作

·等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)系統(tǒng)小批量生產(chǎn)-光子學、固態(tài)照明MEMS和納米技術

·等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)系統(tǒng)應用領域:層間絕緣層、鈍化層、封裝層、掩模層、抗反射層


2.性能價值

等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)系統(tǒng)1.大尺寸手動裝載載物臺(406mm)

2.出色的潔凈度

3.高均勻性

4.高吞吐量 等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)系統(tǒng)

5.可靠的軟件

6.小巧的占地面積

7.具有成本效益

8.易于維護

9.采用行業(yè)頭部組件


3.經(jīng)過驗證的解決方案

·廣泛的“交鑰匙"工藝

·通過優(yōu)化的噴淋頭實現(xiàn)高薄膜均勻性

·高標準的利用率和可靠性--采用一級(Tier Ⅰ)OEM組件、快速抽真空、可選原位終點檢測,避免過度清洗

·享有認可的服務與支持

·通過低頻或氦氣稀釋實現(xiàn)應力控制


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